Chọn trang

Trang Chủ

Vật lý ứng dụng

Nhà cung cấp hàng đầu về thiết bị đo lường dược phẩm và chất bán dẫn

Applied Physics US

Tiêu chuẩn wafer nhiễm bẩn, tiêu chuẩn wafer hiệu chuẩn và wafer hiệu chuẩn PSL là các tiêu chuẩn hiệu chuẩn có thể theo dõi của NIST sử dụng các vi cầu polystyrene hoặc các vi cầu silica được chứng nhận để hiệu chỉnh độ chính xác kích thước của các hệ thống kiểm tra bề mặt quét trong các ứng dụng đo lường bán dẫn. Chúng tôi chuyên lắng đọng tại chỗ và lắng đọng hoàn toàn trên các tấm silica siêu sạch 100 mm đến 300 mm hoặc các tấm wafer của khách hàng. Các tiêu chuẩn kích thước hạt polystyrene được sử dụng để hiệu chỉnh bộ đếm laser sol khí. Giường phồng Polystyrene được sử dụng để lấp đầy túi đựng đồ nội thất, gối trải sàn, ghế dài có giường và gối ném.

 

Máy phun sương phòng sạch CRF6, CRF3 và CRF2, máy phun sương phòng sạch 2001 và máy phun sương siêu tinh khiết LN2 của chúng tôi được sử dụng trong nghiên cứu cân bằng không khí và khói để hình dung sự nhiễu loạn luồng không khí trong bộ cách ly rào cản, tủ an toàn sinh học, phòng sạch, v.v. Máy phun sương phòng sạch 2001 được sử dụng trong nghiên cứu khói để hình dung luồng không khí và sự nhiễu loạn trong phòng sạch, bộ ISO, phòng vô trùng, bộ cách ly rào cản, RAB, BSC và hộp đựng găng tay. So sánh hiệu suất máy phun sương phòng sạch cho nghiên cứu khói của bạn. Máy chạy bộ siêu tinh khiết hiện đại của chúng tôi bao gồm kiểm soát vận tốc luồng không khí có thể điều chỉnh, âm lượng sương mù có thể điều chỉnh và điều khiển từ xa không dây. Chúng tôi cung cấp máy chạy bộ siêu âm LN2 và máy chạy bộ siêu âm chỉ sử dụng nước DI, WFI và nước vô trùng.

 

Máy phun sương siêu tinh khiết LN2 của chúng tôi giới thiệu một loại sương mù hoàn toàn tinh khiết để sử dụng trong các phòng sạch, bộ ISO dược phẩm. Nó bao gồm một xe đẩy lăn, thay thế tay cầm truyền thống của các thiết kế fogger ln2 cũ hơn. Máy tạo sương mù siêu tinh khiết AP35 và AP100 LN2 là công cụ tốt nhất để tạo sương mù siêu tinh khiết, cung cấp khả năng kiểm soát tốc độ luồng không khí, kiểm soát lượng sương mù và điều khiển từ xa không dây với thao tác thân thiện với người dùng. Bằng cách kết hợp LN2 với nước DI, nước vô trùng hoặc nước WFI, hơi sương mù siêu tinh khiết được tạo ra với thể tích từ thấp đến cao để hình dung sự hỗn loạn của luồng không khí trong nghiên cứu khói của bạn.

 

Chúng tôi cũng cung cấp chi phí thấp hơn, khối lượng sương mù thấp hơn CRF2, CRF3 và CRF6, máy phun sương phòng sạch di động; sử dụng đầu dò siêu âm để tạo ra sương mù tinh khiết để hình dung luồng không khí nhiễu loạn trong tủ hút ISO dãy phòng vô trùng và để cân bằng luồng không khí giữa các phòng và cửa ra vào. Máy phun sương phòng sạch CRF3 và CRF6 được sản xuất với vỏ bằng thép không gỉ, được đánh bóng bằng điện và là loại máy phun sương bán chạy nhất của chúng tôi do kích thước nhỏ, âm lượng sương mù có thể điều chỉnh, luồng không khí có thể điều chỉnh và điều khiển từ xa không dây. CRF6, CRF3 và CRF2 chỉ sử dụng nước DI, nước vô trùng hoặc nước WFI để tạo ra đầu ra sương mù có thể điều chỉnh có thể điều chỉnh theo nhu cầu luồng khí động của bạn.

 

Máy Khử nhiễm và Khử trùng của chúng tôi giúp giảm các mầm bệnh không mong muốn trong quá trình phát triển nông nghiệp, để cải thiện năng suất cây ô liu và cải thiện sản xuất sữa bằng cách giảm mạnh các mầm bệnh ảnh hưởng đến sản xuất sữa. Máy hút bụi khô và di động, hoạt động bằng pin, Máy xông hơi khô ba lô của chúng tôi được sử dụng để vệ sinh phòng ốc, tòa nhà, đường hầm, thực phẩm, chế biến thực phẩm và sự phát triển nông nghiệp bằng cách tiêu diệt nấm mốc, nấm men, nấm, bào tử, coronavirus và nấm Candida Auris, là một dạng có hại của nấm men. Sử dụng tất cả các chất lỏng khử nhiễm tự nhiên, chất khử trùng của chúng tôi làm giảm các mầm bệnh có hại, giúp tăng sản lượng đáng kể cho sản xuất sữa và thực phẩm.

Trở thành một đại lý được ủy quyền

Applied Physics là nhà cung cấp thiết bị đo lường hàng đầu toàn cầu cho các công ty dược phẩm và chất bán dẫn. Các sản phẩm của chúng tôi bao gồm Máy phun sương phòng sạch, Kính hiển vi Polystyrene, Tiêu chuẩn kích thước hạt, Tiêu chuẩn wafer hiệu chuẩn, Máy lấy mẫu không khí vi sinh vật, các sản phẩm hạt Graphene. Mút Polystyrene EPS được sử dụng để lấp đầy Túi đựng đồ nội thất, Túi đậu, Gối trải sàn, Gối ném, Ottoman và nhiều thứ khác.

Applied Physics có đại lý để cung cấp dòng sản phẩm của chúng tôi cho khách hàng của họ.

Nếu công ty của bạn quan tâm đến việc trở thành một ủy quyền Applied Physics đại lý, vui lòng nhấp vào nút bên dưới để gửi đơn đăng ký của bạn.

Balo 48v Fogger, Bò sữa & Tăng trưởng Lương thực

PBF-48 sử dụng PathAway Decontaminate tiêu diệt mầm bệnh trong sự phát triển của Cây Ô liu và cải thiện sản lượng sữa bằng cách gần như loại bỏ bệnh đau mắt đỏ, ho ở bê và mụn cóc ở chân.

CRF6, Fogger phòng sạch di động cung cấp khả năng điều chỉnh vận tốc luồng không khí và kiểm soát âm lượng sương mù với sương mù lên tới 2.0 mét khối mỗi phút thông qua hai cửa thoát sương mù 80 mm trong ≈ 45 phút, mật độ sương mù ≈ 213 ml mỗi phút cung cấp luồng không khí có thể nhìn thấy được từ 12 đến 15 feet bằng cách sử dụng cửa phun sương kép 80 mm. CRF6 lý tưởng cho các nghiên cứu về khói trong phòng sạch, dãy phòng ISO, phòng vô trùng, RAB, BSC, bộ cách ly rào cản, hộp găng tay, v.v. Điều khiển bằng bàn phím cảm ứng được cung cấp hoặc điều khiển từ xa không dây tùy chọn có sẵn để vận hành CRF6 sau một bức tường kín, bên trong một bộ cách ly hàng rào hoặc hộp găng tay. Không có ô nhiễm phát ra. Sương mù bay hơi trở lại không khí chúng ta hít thở, không cần phải lau sạch phòng sạch. CRF3 là phiên bản nhỏ hơn với một cửa thoát sương mù 80mm duy nhất tạo ra sương mù tinh khiết 0.89 mét khối mỗi phút.

CRF2, phòng sạch Sương mù là một máy tạo sương mù chi phí thấp tạo ra 0.26 mét khối sương mù mỗi phút qua một cửa thoát sương mù 60mm trong ≈ 50 phút, mật độ sương mù ≈ 57 ml mỗi phút cung cấp sương mù khả kiến ​​≈ 6 feet cho các nghiên cứu khói bằng cách sử dụng nước khử ion, khử trùng hoặc WFI để hình dung các mô hình luồng không khí và nhiễu loạn trong tủ hút, hộp đựng găng tay và tủ hút. Không có ô nhiễm phát ra, sương mù bay hơi trở lại không khí mà chúng ta hít thở, không cần lau trong phòng sạch. Video sương mù phòng sạch CRF2

AP35, LN2 Máy hút bụi phòng sạch cung cấp luồng không khí có thể điều chỉnh và khối lượng cao, đầu ra sương mù có thể điều chỉnh, sương mù ≈ 5.5+ mét khối mỗi phút trong 60 phút, mật độ sương mù ≈ 571 ml mỗi phút bằng cách sử dụng máy nước nóng kép để cung cấp sương mù có thể nhìn thấy được từ 20 đến 30 feet với 35 L của LN2 + 5 L nước (khử ion, vô trùng hoặc WFI) để nghiên cứu khói trong phòng sạch, dãy phòng ISO, phòng vô trùng và phòng y tế. Sử dụng điều khiển bàn di chuột hoặc điều khiển từ xa không dây tùy chọn để tạo sương mù phía sau một bức tường kín. Kể từ năm 2001, máy phun sương phòng sạch di động đã cung cấp sương mù siêu mịn, thoáng khí mà không cần lau phòng sạch. Video AP35 Ultrapure LN2 Fogger

Hạt cao su polystyrene, quả cầu cao su, hạt vi cầu và tiêu chuẩn kích thước hạt là tiêu chuẩn kích thước hạt được chứng nhận bởi NIST Traceable, được sản xuất dưới dạng vi cầu polystyrene từ 20 nm đến 160 µm. Polystyrene Latex Microspheres và polystyrene latex cầu có độ chính xác cao, tiêu chuẩn kích thước hạt với phân bố kích thước hẹp, lơ lửng trong dung dịch DI Water với chất hoạt động bề mặt để giảm thiểu sự kết tụ. Các hạt Polystyrene khô cũng có sẵn. Các hạt cao su polystyrene được sử dụng để tạo ra thử thách hạt aerosol để hiệu chuẩn kích thước của máy đếm hạt laser và để sản xuất các tiêu chuẩn Wafer Hiệu chuẩn.

Hạt vi cầu silic là các tiêu chuẩn hạt hiệu chuẩn silica, có thể truy xuất nguồn gốc của NIST, được cung cấp từ 30 nm đến 2500 nm. Các hạt nano silica được sử dụng trong các ứng dụng dược phẩm và được sử dụng để lắng đọng các tiêu chuẩn Wafer gây ô nhiễm. Silica CV là 3% điển hình trong phân bố kích thước. Các hạt vi cầu silica được pha loãng với 15ml etanol hoặc nước khử ion, dựa trên nhu cầu của khách hàng. Các hạt Silica khô cũng có sẵn từ 100 nm đến 2500 nm, từ 1 gam đến 10 Kg mỗi thể tích.

Tiêu chuẩn wafer hiệu chuẩn được chứng nhận, có thể theo dõi NIST, tiêu chuẩn wafer tuyệt đối lắng đọng với các vi cầu cao su polystyrene monodisperse ở đường kính hạt từ 30 nm đến 12 micrômét. Số lượng hạt lắng đọng thường nằm trong khoảng từ 2000 đến 20000 lần đếm trên bề mặt tấm wafer. Sự lắng đọng tại chỗ có thể là 1 đến 8 đỉnh kích thước hạt lắng xung quanh tấm wafer, tùy thuộc vào đường kính wafer. Tiêu chuẩn Wafer hiệu chuẩn được sử dụng để hiệu chỉnh độ chính xác kích thước của các hệ thống kiểm tra bề mặt quét (SSIS), chẳng hạn như Tencor 6200, Tencor 6220, Tencor 6400 và 6420, KLA và Tencor SP1, SP2 và các công cụ kiểm tra wafer của Hitachi.

Tiêu chuẩn wafer ô nhiễm Silica được chứng nhận, có thể theo dõi NIST, tiêu chuẩn wafer ô nhiễm lắng đọng với monodisperse, silica microspheres ở đường kính hạt từ 50 nm đến 2500 nm (2.5 µm). Tiêu chuẩn Wafer ô nhiễm Silica thường được lắng đọng dưới dạng lắng đọng toàn bộ trên tấm wafer; nhưng có thể được lắng đọng với tối đa 8 đỉnh kích thước silica được lắng đọng dưới dạng lắng đọng tại chỗ xung quanh tiêu chuẩn wafer. Mỗi kích thước hạt silica có sự phân bố kích thước hẹp từ 3% trở xuống. Tiêu chuẩn Wafer Ô nhiễm Silica được cung cấp Giấy chứng nhận Kích thước, Truy xuất nguồn gốc NIST và được sử dụng để hiệu chỉnh độ chính xác về kích thước của các hệ thống kiểm tra bề mặt quét (SSIS) bằng cách sử dụng tia laser công suất cao; chẳng hạn như công cụ kiểm tra tấm mỏng KLA và Tencor SP2, SP3, SP5, SP5xp, KLA và Hitachi.

Máy phun sương AP100, Ultrapure LN2 là khối lượng sương mù cao nhất, có thể điều chỉnh dòng chảy, tạo ra sương mù siêu mịn ≈ 15.5 mét khối mỗi phút, hoạt động ≈ 90 phút, mật độ sương mù ≈ 1520 ml mỗi phút sử dụng máy nước nóng kép để cung cấp sương mù có thể nhìn thấy được từ 30 đến 40 feet sử dụng 100 L LN2 + 10 L nước (khử ion, vô trùng hoặc WFI) để nghiên cứu khói trong phòng sạch lớn, hoặc được sử dụng để tạo ra khối lượng lớn sương mù sân khấu và sân khấu. Bốn đầu ra vòi phun sương mù được cung cấp cho các nghiên cứu khói trong phòng sạch, dãy phòng ISO, phòng vô trùng, phòng y tế; và sương mù siêu mịn cho sương mù sân khấu. Sử dụng điều khiển bàn di chuột và điều khiển từ xa không dây để vận hành ở khoảng cách xa. Không có ô nhiễm phát ra, sương mù bay hơi trở lại không khí mà chúng ta hít thở, không cần lau trong phòng sạch.

Máy lấy mẫu không khí vi sinh cầm tay P100 Với chức năng vượt trội và những lợi ích chính, Máy lấy mẫu không khí vi khuẩn cầm tay P100 MỚI từ Applied Physics được coi là tiêu chuẩn công nghiệp để lấy mẫu không khí vi sinh vật. Bộ lấy mẫu không khí vi khuẩn P100 cung cấp hai tốc độ lấy mẫu do CPU kiểm soát, 28.3 LPM (1 CFM) và 100 LPM, để cho phép giám sát liên tục các quy trình quan trọng hoặc lấy “mẫu lấy” theo mét khối nhanh chóng.

Ba lô di động Dry Fogger, PBDF-48 là một chiếc ba lô, túi sương mù khô hoạt động bằng pin với khoang chứa nước 8 lít, cho phép trộn với chất lỏng khử trùng, hòa tan trong nước, ưa thích của bạn để khử trùng vùng kín của bạn một cách nhanh chóng. BackPack Fogger hoạt động ở đầu ra giọt 10-15 micron, làm cho nó trở thành Dryfogger di động duy nhất có tính di động thực sự. PBDF Portable Backpack Dry Fogger cung cấp công tắc bật nguồn từ xa trên ống phun sương để bạn có thể dễ dàng bật / tắt nguồn khi cần thiết. PBDF cho phép nhân viên được đào tạo của bạn nhanh chóng làm vệ sinh các phòng, hành lang, các điểm ra / vào bằng chất khử trùng ưa thích của bạn, chẳng hạn như chất lỏng khử trùng axit Hypochlorous, được pha với nước tinh khiết ở nồng độ mà bạn mong muốn trong tổng số 8 lít chất lỏng. Công dụng điển hình của PBDF-48 là tiêu diệt các mầm bệnh nguy hiểm như bào tử, nấm, mốc, coronavirus và các loại nấm men như Candida Auris, một loại nấm men có hại xâm nhập phổi, máu và não.

Sản phẩm PBF-48 Balo xách tay Fogger khá có khả năng làm sạch phòng và văn phòng bằng cách sử dụng chất khử trùng “Hoàn toàn tự nhiên”, có khả năng tiêu diệt vi rút, coronavirus, bào tử, nấm mốc và nấm khi tiếp xúc. Nó thường được thiết lập với đầu ra sương mù 15 micron để hỗ trợ các ứng dụng cây nông nghiệp và lá cây; hoặc có thể được thiết lập với sương mù 35 micron để tiêu diệt tiếp xúc bề mặt của các sinh vật sinh học không mong muốn quan trọng trong đời sống thực vật, chẳng hạn như tiêu diệt một loại nấm chuối gây hại ở Nam Mỹ có tên là Tropical Race 4, TP4. PBF-48 và PBF-24 được sử dụng cho gia súc để giảm mụn cóc ở chân ở bò sữa và bò thịt, cải thiện sản lượng thịt bò và sữa.

Sản phẩm WMF tường và bảng khử nhiễm sương mù là một đơn vị thực sự khép kín có khả năng khử trùng các phòng và văn phòng bằng cách sử dụng chất khử trùng “Hoàn toàn tự nhiên”, có khả năng tiêu diệt vi rút, coronavirus, bào tử, nấm mốc và nấm khi tiếp xúc. Nó thường được thiết lập với đầu ra sương mù 15 micron để hỗ trợ sương mù khô trong môi trường văn phòng hoặc gia đình; hoặc có thể được thiết lập với sương mù 35 micron để tiêu diệt tiếp xúc bề mặt của các sinh vật sinh học không mong muốn quan trọng

Sản phẩm WMF2 tường và bảng khử nhiễm sương mù là một đơn vị AC được nâng cấp với một động cơ mạnh mẽ hơn. Thiết bị này lý tưởng cho việc sử dụng nặng hơn và liên tục hơn. Khi được sử dụng với dung dịch hoàn toàn tự nhiên, nó có khả năng tiêu diệt vi rút, coronavirus, bào tử, nấm mốc và nấm khi tiếp xúc. Nó thường được thiết lập với đầu ra sương mù 15 micron để hỗ trợ sương mù khô trong môi trường văn phòng hoặc nhà kho; hoặc có thể được thiết lập với sương mù 35 micron để tiêu diệt tiếp xúc bề mặt của các sinh vật sinh học không mong muốn quan trọng.

Hạt polystyrene EPS có đường kính khoảng 10 mm, khoảng 0.4″, được bán theo xe tải trong các túi nhựa chứa khoảng 50 feet khối mỗi túi. Hạt xốp được sử dụng để lấp đầy Túi đựng đồ nội thất, Túi đậu, Gối ném, Ottoman và Gối trải sàn cho các ứng dụng gia đình/văn phòng. Hạt EPS không chứa CFC và đáp ứng RoHS mới (Hạn chế các chất độc hại).

Đối tác tin cậy

TÓM TẮT SẢN PHẨM

Máy phun sương phòng sạch, Máy phun sương CRF6, Máy phun sương nước DI, Máy phun sương siêu tinh khiết LN2, Máy phun sương LN2 và Máy phun sương phòng sạch di động được sử dụng để trực quan hóa luồng không khí trong nghiên cứu khói bằng cách mô tả trực quan các mô hình luồng không khí, vùng chết và nhiễu loạn trong phòng sạch, phòng vô trùng, bộ cách ly rào cản, RABS, hộp găng tay và bộ ISO. Hướng dẫn dành cho ISO 14644-3 ANNEX B7, USP 797 Phân tích luồng không khí tại chỗ, Phục hồi luồng không khí và phòng sạch chất bán dẫn được hỗ trợ. Máy phun sương phòng sạch CRF6 và CRF3 là loại máy phun sương phòng sạch di động, bán chạy nhất. CRF6 cung cấp 2 mét khối sương mù tinh khiết mỗi phút, trong khi CRF3 cung cấp khoảng 0.89 mét khối mỗi phút. Cả hai máy phun sương đều rất dễ vận hành chỉ sử dụng nước WFI, nước khử ion hoặc nước vô trùng để tạo sương mù với bộ điều khiển sương mù có thể điều chỉnh và điều khiển từ xa không dây tùy chọn. AP35 Ultrapure Fogger tạo ra hơn 5.5 mét khối sương mù mỗi phút với mật độ sương mù 571 ml mỗi phút để cung cấp luồng không khí trực quan 20-30 feet. CRF2 là máy phun sương có chi phí thấp nhất hiện có, tạo ra sương mù 0.26 mét khối mỗi phút với mật độ sương mù 57 ml để cung cấp khoảng 6 feet luồng không khí nhìn thấy được trong tủ hút và bộ cách ly rào cản. CRF4 là máy phun sương tầm trung cung cấp 1.25 mét khối sương mù mỗi phút với mật độ sương mù 187 ml để hình dung luồng không khí từ 10 đến 15 feet trong phòng sạch nhỏ. AP100 là máy phun sương thể tích lớn với 15.5 mét khối mỗi phút ở mật độ sương mù 1520 ml cung cấp luồng không khí trực quan 30 feet trong các phòng sạch và sân khấu lớn. Máy phun sương siêu tinh khiết cho phòng sạch, được gọi là máy phun sương LN2, tạo ra lượng sương mù siêu tinh khiết cao nhất với âm lượng sương mù có thể điều chỉnh, luồng không khí có thể điều chỉnh và điều khiển từ xa không dây. So sánh hiệu suất Fogger của máy phun sương LN2, máy phun sương CRF6 và máy phun sương nước DI. Bạn có thể xác định máy tạo sương mù nào phù hợp với yêu cầu nghiên cứu về khói của mình. Máy phun sương phòng sạch hỗ trợ trực quan hóa luồng không khí theo định nghĩa của USP797, ISO 14644-3, Phụ lục B7; Tiêu chuẩn Liên bang 209E, Tiêu chuẩn ISO 14644-1 và 14644-2. Thử nghiệm phục hồi luồng không khí ở thời gian phục hồi 100:1 cũng được hỗ trợ với Máy phun sương phòng sạch CRF2 hoặc CRF4 như được định nghĩa trong ISO 14644-3, B12. Những công cụ này thường được gọi là máy tạo khói hoặc máy tạo khói; được sử dụng trong các nghiên cứu khói về sự nhiễu loạn của luồng không khí trong phòng vô trùng, dãy phòng ISO, phòng mổ y tế, tủ an toàn sinh học, bộ cách ly rào cản, hộp đựng găng tay và phòng sạch. Applied Physics cũng cung cấp các tiêu chuẩn tấm wafer hiệu chuẩn, tiêu chuẩn tấm wafer nhiễm silica, vi cầu polystyrene và tiêu chuẩn kích thước hạt silica. Vệ sinh Foggers có thể khử nhiễm 99.997% nấm men, vi rút, vi rút vỏ bọc, nấm mốc, nấm và vi khuẩn. Liên hệ Applied Physics, Inc. tại ĐIỆN THOẠI: 1-719-428-4042. Liên kết Phòng sạch Foggers

Applied Physics US

Phòng sạch Fogger sử dụng trong nghiên cứu khói

CRF4 Máy hút bụi phòng sạch

Máy hút bụi phòng sạch di động

Máy chạy bộ phòng sạch là máy tạo khói được sử dụng trong các nghiên cứu về khói để hình dung luồng không khí và nhiễu loạn với sương mù tinh khiết hỗ trợ các hướng dẫn USP 797, ISO 14644 và Tiêu chuẩn Liên bang trong phòng sạch, phòng vô trùng và phòng ISO. Các CRF6 Máy hút bụi phòng sạch cung cấp mật độ sương mù 213 ml mỗi phút với thể tích sương mù khoảng 2.0 mét khối mỗi phút trong tối đa 45 phút hoạt động, cung cấp luồng không khí nhìn thấy được 15 feet để nghiên cứu khói và mô hình luồng không khí 3D trong phòng sạch, dãy phòng ISO, phòng y tế và phòng vô trùng. Máy phun sương phòng sạch CRF2 và Máy phun sương phòng sạch CRF6 cung cấp chi phí vận hành thấp hơn trong các nghiên cứu về khói để trực quan hóa luồng không khí trong phòng sạch.

CRF2 và CRF6 Máy hút bụi phòng sạch Thông tin

Applied Physics US

Ultrapure Phòng sạch Fogger trong nghiên cứu khói, LN2 Fogger

AP35 Máy tạo sương mù Ultrapure

Phòng sạch di động Ultrapure Fogger

Máy chạy bộ Ultrapure kết hợp LN2 với nước khử ion, nước vô trùng hoặc nước WFI để tạo ra lượng sương mù siêu lớn cho nghiên cứu khói, hỗ trợ các hướng dẫn USP 797, ISO 14644-3 và Tiêu chuẩn Liên bang trong phòng sạch, phòng khử trùng và phòng ISO. Các AP35, Máy hút bụi phòng sạch Ultrapure cung cấp mật độ sương mù 571 ml mỗi phút với khối lượng sương mù lên đến 5.5+ mét khối mỗi phút trong tối đa 60 phút với luồng không khí nhìn thấy được từ 20 đến 30 feet để nghiên cứu khói và mô hình luồng không khí 3D. Lượng sương mù nhiều hơn gấp 3 lần, mật độ sương mù cao hơn gấp 2 lần và khoảng cách di chuyển của luồng không khí cao hơn gấp 2 lần, chi phí gần bằng với thiết bị tạo sương mù LN2 truyền thống. Các AP100, LN2 Máy hút bụi phòng sạch cung cấp 15.5 mét khối sương mù mỗi phút ở mật độ sương mù 1520 ml cho các phòng sạch lớn nhất, phòng vô trùng và dãy phòng ISO; và sương mù sân khấu cho việc sử dụng sương mù sân khấu. AP35 và AP100 được cung cấp với vỏ thép không gỉ, được đánh bóng điện.

AP35 Máy tạo sương mù Ultrapure Thông tin

Applied Physics US

Polystyrene Microspheres, tiêu chuẩn kích thước hạt và hạt xốp Polystyrene

Applied Physics US

Tiêu chuẩn kích thước hạt, micrô 20nm đến 160

Polystyrene latex Spheres và hạt latex polystyrene được cung cấp với nồng độ 1% hoặc ít hơn trong nước 15ml DI để sử dụng làm tiêu chuẩn kích thước hạt và thách thức hạt aerosol. Một dấu vết của chất hoạt động bề mặt được bao gồm trong mỗi chai để giảm sự kết tụ. Surf-Cal, PSL Spheres trộn sẵn được cung cấp trong chai 50ml ở nồng độ 1E10. 1 um đến 160 um Các quả cầu PSL có sẵn trong 15ml dung dịch nước DI và thường được sử dụng để hiệu chuẩn kích thước thiết bị. Các quả cầu Polystyrene khô có sẵn từ 3 -750 micron. Hạt xốp Polystyrene được sử dụng để lấp đầy Poufs nội thất, Gối ném, Gối sàn, v.v.

Hạt nhựa cao su Polystyrene 20 nm đến 900 nm, Vi cầu cao su Polystyrene, Quả cầu PSL Thông tin

Applied Physics US

Hiệu chuẩn wafer

Hiệu chuẩn wafer

Tiêu chuẩn wafer PSL

Tiêu chuẩn wafer hiệu chuẩn được sản xuất trên các tấm Prime Silicon, tấm wafer PHIM hoặc mặt nạ trần của bạn. Các hạt latex polystyrene có thể truy nguyên, được sử dụng để sản xuất, Tiêu chuẩn wafer hiệu chuẩn từ 40 nm đến micrô 12 trên các tấm 100 mm đến các tấm 300 mm. Các tiêu chuẩn wafer hiệu chuẩn được sử dụng để hiệu chuẩn kích thước của KLA-Tencor Surfscan SP1, SP2, SP3, SP5, SP5xp; Các hệ thống Tencor 6200, 6400 và 6420; Hệ thống kiểm tra wafer Topcon, ADE và Hitachi. Các tiêu chuẩn wafer hạt này là NIST có thể theo dõi với Chứng chỉ kích thước được cung cấp với một đỉnh kích thước duy nhất được gửi dưới dạng lắng đọng FULL wafer trên wafer hoặc được gửi với các đỉnh kích thước hạt latex polystyrene, được đặt dưới dạng lắng đọng tại chỗ xung quanh wafer silicon, màng wafer bề mặt hoặc mặt nạ hình ảnh.

Hiệu chuẩn wafer Thông tin

Applied Physics US

Tiêu chuẩn kích thước hạt Silica

Hạt vi cầu silic

Tiêu chuẩn kích thước hạt Silica

Hạt silic với nồng độ 10% trong 15ml để sử dụng làm tiêu chuẩn kích thước hạt silica của NIST và các thách thức hạt aerosol. Silica được sản xuất dưới dạng các hạt hình cầu, phân bố kích thước 3% hoặc ít hơn từ 40nm đến 2000nm với nồng độ 10%, có sẵn ở thể tích 15 ml, 100 ml, 500 ml và 1000 ml. Các hạt silica ở 102nm hoặc thấp hơn được trộn trong dung dịch cồn ethanol để giảm thiểu sự kết tụ; trong khi các hạt silica trên 102nm được trộn trong nước khử ion. Không có chất hoạt động bề mặt được sử dụng. Kích thước hạt SiO2 ở 60nm, 102 nm, 269 nm và 895nm tương tự như các SRM NIST ở cùng kích thước. Silic chức năng và silica kỵ nước cũng có sẵn với gia số 1 Kg lên đến 1000 Kg. Số lượng lớn, silica bột khô được sử dụng trong silicat thương mại, chất độn trong polyme, chất nhầy CMP, vật liệu tổng hợp nano, sắc ký lỏng cao áp và các hạt silica trung tính (MSN).

Tiêu chuẩn kích thước hạt nano và hạt Thông tin

Applied Physics US

Tiêu chuẩn Wafer ô nhiễm sử dụng Silica Microspheres, Tiêu chuẩn Wafer dạng hạt

Tiêu chuẩn wafer ô nhiễm

Tiêu chuẩn wafer ô nhiễm Silica

Các tiêu chuẩn về tấm wafer nhiễm bẩn được sản xuất trên các tấm wafer Prime Silicon, tấm phim mỏng hoặc mặt nạ trắng của bạn. Các hạt nano Silica có thể theo dõi của NIST được sử dụng để sản xuất Tiêu chuẩn wafer nhiễm bẩn. Chất chuẩn lát mỏng dạng hạt được lắng đọng với các hạt silica, NIST Traceable từ 30 nm đến 2.5 um, lắng đọng trên các tấm mỏng 150 mm đến 300 mm, được sử dụng để hiệu chuẩn KLA-Tencor Surfscan SP2, SP3, SP5, SP5xp; Hệ thống Tencor 6200, 6400 và 6420. Các tiêu chuẩn wafer nhiễm bẩn này được cung cấp cùng với Giấy chứng nhận kích thước dưới dạng lắng đọng đầy đủ một kích thước hoặc tối đa 8 kích thước dưới dạng lắng đọng SPOT xung quanh Tiêu chuẩn wafer. Applied Physics có thể tạo ra bất kỳ đỉnh kích thước silica nào trong khoảng từ 30nm đến 2500nm và lắng đọng từ 1 đến 8 kích thước silica xung quanh bề mặt tấm wafer silicon nguyên chất 300mm hoặc 4 kích thước silica xung quanh mặt nạ ảnh trống 150mm.

Tiêu chuẩn wafer hiệu chuẩn Silica Thông tin

Ấn bản mới nhất

Bộ xử lý Graphene và sự trỗi dậy của ống nano carbon | bởi Rahul Saha | Trung bình

Hiệu suất của một máy tính không được đo bằng tốc độ của nó mà bằng các hoạt động mà nó có thể thực hiện. Do đó, flop được giới thiệu có nghĩa là số lượng… Hiệu suất của một máy tính không được đo bằng tốc độ của nó mà bằng các hoạt động mà nó có thể thực hiện. Do đó flop đã được giới thiệu có nghĩa là ...

Virus corona, COVID-19: Máy phun sương khô DF2S

Covid 19 Gần đây, chúng tôi đã nhận thấy sự gia tăng đáng kể các yêu cầu về Máy phun sương khử trùng bằng sương mù khô DF2S và Máy khử trùng bằng sương mù khô mini với sự bùng phát gần đây của vi-rút Corona và những người đang tìm kiếm giải pháp COVID-19. DF2S đã được thử nghiệm nhiều năm trước...

Khử trùng Fogger để tiêu diệt nấm men, nấm mốc, bào tử, nấm, virus

Máy phun sương khô khử trùng Máy phun sương khô khử trùng DF2S nổi tiếng với hiệu quả cao trong việc tiêu diệt ô nhiễm sinh học không mong muốn trong các dãy phòng ISO, phòng vô trùng, phòng y tế sử dụng một số loại chất khử trùng. DryFoggers không bôi chất lỏng lên các bề mặt mà khăn lau...

Tiêu chuẩn wafer hạt Silica, tiêu chuẩn kích thước hạt Silica

Tiêu chuẩn kích thước hạt silic Trong các phòng thí nghiệm đo lường chất bán dẫn ngày nay, các công cụ kiểm tra tấm bán dẫn sử dụng tia laze công suất cao để quét các tấm bán dẫn silicon 200 mm và 300 mm nhằm phát hiện các hạt bề mặt có kích thước nhỏ hơn < 30 nanomet. Khi hiệu chỉnh chức năng quét laser công suất cao...

Súng lục sương mù

Súng phun sương Máy phun sương Glycol di động, còn được gọi là súng phun sương, được sử dụng trong phòng sạch Công nghiệp để trực quan hóa rò rỉ luồng không khí và xác định vị trí nhiễu loạn. Nó là máy phun sương cầm tay hoạt động bằng pin và được sử dụng trong các khu công nghiệp nhỏ, nơi cần phải...

%

CHÍNH XÁC

%

TỈ LỆ THÀNH CÔNG

%

SỐ LIỆU TỐT HƠN

%

CHI PHÍ-HIỆU QUẢ

Dịch "